纳米接触研磨研磨液是人们说的光刻胶吗

司简介 来彩电子材料有限公司成竝於2008年专业为中国地区微电子、纳米接触研磨制造、半导体、LED、液晶显示及特种镀膜等领域的客户提供系统解决方案。 我们应用在LED行业嘚黄光工艺材料涵盖:图形衬底工艺(PSS衬底)、倒装芯片工艺(Flip chip芯片)、高压芯片工艺(HV芯片)我们与日本、美国、韩国、加拿大、德國、台湾、香港等地的各大厂商强强联合,为LED企业客户提供一站式服务以“为客户创造最大价值、让客户实现最终梦想”为奋斗目标,使LED行业不断走向规范化产业化。 我们应用在黄光工艺用产品: 一、 光刻胶: 正胶(EP-1040 、EP1060)负胶(ELL-1130、 ELL-1150、 ELL-1170) 东进(DONG JING)全系列:负胶(DNR-L300-D1、DNR-L300-40)、正胶(DSAM3020、DSAM3037) 以及独特最新工艺-图形衬底(PSS)光刻胶 倒装芯片(Flip chip)用光刻胶。高压芯片(HV)用光刻胶各种厚膜胶及特殊工艺用途光刻胶等。 二、 配套电子化学品 ITO蚀刻液、二氧化硅腐蚀液(BOE)

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