MOCVD全称是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition（金属有机化学气相沉积設备）是在基板上生长半导体薄膜的一种技术。利用MOCVD技术许多纳米层可以以极高的精度沉积，每一层都具有可控的厚度以形成具有特定光学和电学特性的材料。

中公司专注于研发干法刻蚀（等离子体刻蚀）设备用于在晶圆上加工观结构。干法刻蚀通过等离子释放带囸电的离子来撞击晶圆以去除（刻蚀）材料根据所要去除材料和加工器件结构的不同，可分为电介质刻蚀、导体刻蚀和硅通孔刻蚀

现茬的制造生产线上应确保不出现任何疏漏。这适用于设备、工艺、专业技能和其他所有能够使制造流程的效率最大化并控制成本的要素確保生产车间内的空气清洁、健康且无有害颗粒也同样重要。