用磁控溅射技术怎样制备绝缘材料的薄膜_百度知道
用磁控溅射技术怎样制备绝缘材料的薄膜
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靶材容易破裂，用活泼金属靶（Al）。物理气象沉积。绝缘的氮化铝落在基体上形成绝缘膜层：PVD（物理气象沉积），在溅射过程中充入适量的反应气体（N2）。调节氮气的流量可以完成溅射速率和纯度的特有关系一般磁控溅射方法制备绝缘材料的薄膜有两种方法。使铝原子在沉积过程中被氧化成氮化铝、CVD（化学气象沉积），缺点是溅射速率慢。化学气象沉积，溅射功率高，用陶瓷靶（绝缘靶）溅射
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射频溅射就可以了，非常常见的一种方法。
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